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超声波清洗发生器

超声波发生器:

1、超声波发生器,又称超声波驱动电源、超声波电箱,是大功率超声系统的重要组成部分

2、超声波发生器作用是把市电转换成与超声波换能器相匹配的高频交流电信号,驱动超声波换能器工作

3、大功率超声波电源从转换效率方面考虑一般采用开关电源的电路形式。

4、超声波电源分为自激式和它激式电源,自激式电源称为超声波模拟电源,它激式电源称为超声波发生器。

Parameter
Professional Manufacturer of Surface Pretreatment and Cleaning Equipment - Providing the Overall Solution of Industrial Cleaner

超声波发生器产品特点

Ultrasonic Generators Product Characteristics


单片机控制,IGBT工作模式,超声波输出功率较旧式电路增加15%以上,且连续无级可调,液晶显示。


超声波发生器装置工作电压220 V Ac±10%,超声波发生器具有过压,过流,输出短路等保护措施。


超声波发生器具有功率无级调节的功能,输出功率可实现10~100%的连续调整,以适应各种清洗对象的要求。


超声波发生器配备有数字式超声波工作时间0~999min 设定,精确到秒,实现无人自动值守。



Singlechip-control, IGBT operating mode, the ultrasonic output power is greater than that of the old style circuit by over 15%, and it works in a continuous way without adjustable steps, liquid-crystal display


The ultrasonic generator operating voltage 220 V AC±10%,and ultrasonic generator has various protective measures against the potential dangers of overvoltage, overcurrent and output short-circuit.


The ultrasonic generator has the function of stepless adjustment for its power, and its output power can realize 10~100% continuous adjustment, in order to better suit various objects to be cleaned.


The ultrasonic generator is equipped with digital display of ultrasonic work time 0~999min settings, correct to seconds, and it can control and regulate automatically , needless for care by people.

Introduce
Professional Manufacturer of Surface Pretreatment and Cleaning Equipment - Providing the Overall Solution of Industrial Cleaner

工业清洗类的超声波发生器的原理是由超声波发生器发出的高频振荡信号,通过超声波振子转换成高频机械振荡而传播到介质清洗溶剂中。超声波发生器在清洗液中疏密相间的向前辐射,使液体流动而产生数以万计的微小气泡,存在于液体中的微小气泡(空化核)在声场的作用下振动,当声压达到一定值时,气泡迅速增长,然后突然闭合,在气泡闭合时产生冲击波,在其周围产生上千个大气压力,破坏不溶性污物而使它们分散于清洗液中,当团体粒子被油污裹着而粘附在清洗件表面时,油被乳化,固体粒子即脱离,从而达到清洗的目的。
半导体超声波发生器.png半导体超声波发生器的应用范围:
半导体专用单槽式超声波清洗机,采用全桥式数字超声波发生器,LED数显式时间温度控制系统,核心功率件采用进口,性能更稳定,寿命长,先进自动宽频扫描技术,选择不同的波段宽度和扫描频率,提升换能器工件性能,消除驻波,改善超声波能量分布,与普通超声波相比效率更高、性能更稳定
KP系列超声波振板用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理,以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。
Ultrasonic CleanerThis equipment is used for polishing, etching and cleaning treatment of diffused wafers and also compatible for texturing and cleaning treatment of bifacial solar cells.

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